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无论您是想以快的速度分析成百上千个基体复杂的样品，还是想要获得高纯试剂中超痕量杂质的可信结果，安捷伦7700 系列ICP-MS 都能助您满足当前以及未来的分析需求。

安捷伦7700 系列ICP-MS – ICP-MS 仪器的新面孔–是世界上小的商品化ICP-MS。作为的安捷伦7500 系列ICP-MS的继承者，7700性能在各方面更胜一筹：分析速度更快、操作更简便、灵敏度更高、背景噪音更低、消干扰效果更佳、应用面更广、维护更方便。7700x具有适应多种样品类型、应用范围广泛、性能稳定耐用的特点，是大多数常规实验室和分析大批量样品的商业实验室的优选择。7700s 则是专为半导体行业应用而设计，具有半导体针对性的强大功能。这两种型号都具有无可比拟的性能和易于使用的优点，即使您面对的是棘手的样品基体，它们都能为您获取值得信赖的分析结果。  

7700系列ICP-MS不但配置了新的软件平台，而且在仪器硬件方面也进行了革新设计，包括全新数字控制式射频匹配的RF发生器和第三代八极杆碰撞/反应池系统(ORS3)。安捷伦7700x ICP-MS 凭借第三代碰撞/ 反应池(ORS3) 为复杂高基体样品的分析提供了无可比拟的准确性，它革命性地重新定义了碰撞/反应池：仅使用氦气碰撞即可消除所有可能的质谱干扰！

技术参数：

1. 灵敏度：

低质量数 Li(7):  50 Mcps/ppm；

中质量数 Y(89):  160 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；

(高质量数 Tl(205):  80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；

根据用户特殊需求，如激光、核工业、半导体材料等应用，可提供超高灵敏度功能

2. 检测限：

低质量数 Be(9):  0.5 ppt；

中质量数 In(115):  0.1 ppt

高质量数 Bi(209):  0.1 ppt

3. 氧化物干扰: CeO+/Ce+: 1.5 %(7700x)；  3.0 %(7700s)；

4. 双电荷干扰: Ce2+/Ce+: 3.0 %

5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

6. 质谱范围：2 - 260 amu；

7 丰度灵敏度

低质量端:  5 x 10-7

高质量端:  1 x 10-7

主要特点：

尺寸的ICP-MS

灵敏度的碰撞池-第三代ORS3

的纯 He 气碰撞池：只用He气就可以消除所有干扰。

耐高盐的ICP-MS: HMI技术（TDS>3%）

的ICP离子源技术：的数字控制式谐频ICP发生器

有机溶剂进样不熄火！

分析速度快：ISIS-DS技术

容易维护和清洗

强的色谱联机功能：真正的一体化

功能多强的软件：MassHunter系统，实现实时QA/QC

偏移标示，自动化控制等